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微量氧分析儀

微量氧分析儀

簡(jiǎn)要描述:OXY-TOUCHS微量氧分析儀,又稱(chēng)光學(xué)氧氣壓力多功能分析儀,設(shè)備具有溫度、壓力及鹽度自動(dòng)測(cè)試及 補(bǔ)償功能,保證設(shè)備運(yùn)行的長(zhǎng)期穩(wěn)定,高精度壓力檢測(cè)儀器。

所屬分類(lèi):殘氧儀

產(chǎn)品時(shí)間:2025-05-19

詳細(xì)說(shuō)明:

產(chǎn)品名稱(chēng):OXY-TOUCHS 光學(xué)氧氣壓力多功能分析儀

產(chǎn)品介紹:OXY-Touchs  設(shè)備具有溫度、壓力及鹽度自動(dòng)測(cè)試及 補(bǔ)償功能,保證設(shè)備運(yùn)行的長(zhǎng)期穩(wěn)定,高精度壓力檢測(cè)儀器。設(shè)備廣泛適用于制藥包裝頂空氧溶解氧,壓力測(cè)試;生物發(fā)酵、醫(yī)療器械、科研分析、環(huán)境環(huán)保等 行業(yè)應(yīng)用。傳感器采用0.7mm 實(shí)心探針及光學(xué)貼片類(lèi)型, 避免測(cè)試過(guò)程密封影響及無(wú)損留樣測(cè)試目的。采用臺(tái)式一體式設(shè)計(jì),可觸屏使用,連接打印機(jī)實(shí)時(shí)打印,支持在線連續(xù)測(cè)量,軟件自動(dòng)化程度 高,具有原始數(shù)據(jù)儲(chǔ)存及三級(jí)權(quán)限,審計(jì)追蹤。PreSens 光學(xué)傳感器具有快速精準(zhǔn)的測(cè)試能力,頂空 氧響應(yīng)時(shí)間<3S T90; 溶解氧響應(yīng)時(shí)間<30S T90,壓力 響應(yīng)時(shí)間<3s可快速完成樣品測(cè)試。


微量氧分析儀產(chǎn)品特點(diǎn):

1.氧和壓力同時(shí)檢測(cè)

2. 方便移動(dòng),可滅菌連接打印機(jī)實(shí)時(shí)打印

3. 采用熒光猝滅原理測(cè)試速率快

4. 藥品頂空只需滿足0.1ml即 可 穩(wěn)定高無(wú)需日常校準(zhǔn)

5. 外觀采用一體式設(shè)計(jì)主機(jī)采用觸屏式 操作

6. 軟件符合21CFR part 11數(shù)據(jù) 完整性要求


應(yīng)用范圍:

1、生物制藥技術(shù)領(lǐng)域溶解氧,氣態(tài)氧分析,充氮工藝驗(yàn)證等

微量氧分析儀

2、水質(zhì)分析與土壤環(huán)境研究領(lǐng)域氧分析測(cè)試監(jiān)控

微量氧分析儀


3. 生命科學(xué)細(xì)胞培養(yǎng)過(guò)程氧含量監(jiān)控

微量氧分析儀


4. 食品與飲料行業(yè)包裝內(nèi)氧含量監(jiān)控測(cè)試

微量氧分析儀

生物制藥技術(shù)領(lǐng)域溶解氧,氣態(tài)氧分析,充氮工藝驗(yàn)證等。


微量氧分析儀技術(shù)參數(shù):


氧 O?

壓力

規(guī)格

氣態(tài)氧                           溶解氧

壓力


測(cè)量范圍

0-100%氧                        0-45mg/L

0-1000hPa                     0-1400μmolL


0-103Kpa絕壓

檢出限

0.03%氧                          15ppb

0.05Kpa

采樣量

氧:≥0.1ml;溶解氧:請(qǐng)?jiān)斣?xún)

N/A


分辨率

1%氧條件下:±0.01%氧         0.4mg/L條件下:±0.005mg/L 20.9%氧條件下:±0.05%氧       9.0mg/L條件下:±0.025mg/L


0.001Kpa

精度

±0.05%或讀數(shù)3%,取大值

<1kpa±0.2kpa>1Kpa±0.1Kpa

溫度測(cè)量范圍

0℃至50℃


相應(yīng)時(shí)間(too)

氧<6sec溶解氧<40sec

<3sec

溫度測(cè)量范圍

0℃至+50℃

N/A

兼容介質(zhì)

水溶液、乙醇、甲醇、

N/A

無(wú)交叉敏感性

pH1-14、二氧化碳、硫化氫、二氧化硫、離子種類(lèi)

N/A

滅菌步驟

蒸汽滅菌*、環(huán)氧乙烷(Eto)、伽瑪輻照

清洗步驟

原位清洗(CP2%氫氧化鈉80℃,176 F'3%過(guò)氧化氫,酸性劑(鹽酸、硫酸)最高4-5%

無(wú)需清洗







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